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IPジャーナル Vol.4

知的財産研究教育財団 2018.3

所蔵

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 持禁区分 状態
オーテピア高知図書館 3Fビジネス /507.2/ｱｲ/4 1109661833 一般   利用可

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館別所蔵

館名 所蔵数 貸出中数 貸出可能数
オーテピア高知図書館 1 0 1

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タイトル IPジャーナル Vol.4
出版者 知的財産研究教育財団
出版年 2018.3
ページ数 96p
大きさ 30cm
一般件名 知的財産権
NDC分類(9版) 507.2
内容紹介 知的財産に関する国内外の最先端の情報が満載の知財専門誌。Vol.4は、「ファッションの法的保護の現状・課題と将来の展望」のほか、重要知財判例評釈、フリーコンテンツ時代の情報リテラシー、中国知財動向等を収録。
ISBN 4-909189-02-8

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内容一覧

タイトル 著者名 ページ
やりたいこと、できること、求められること 三木/俊克／著 2-3
シリコンバレーの知財の景色 泉/卓也／著 4-10
知財人材のスキームシフトについての考察 菊池/純一／著 11-16
デジタル時代における音楽 城田/晴栄／著 17-22
ファッションの法的保護の現状・課題と将来の展望 金井/倫之／著 24-27
ファッションの法的保護の現状・課題と将来の展望 中川/隆太郎／著 28-31
ファッションの法的保護の現状・課題と将来の展望 山本/真祐子／著 32-35
重要知財判例評釈 小島/立／著 36-43
フリーコンテンツ時代の情報リテラシー 宮武/久佳／著 45
知財の国際舞台から 夏目/健一郎／著 46-47
知財世界の醍醐味 半蔵門/伝次郎／著 48-51
シリーズ「企業に聞く-知財と標準化」 福永/敬一／著 52-57
北海道経済産業局知的財産室における取組についてのご紹介 番井/進／著 58-62
2017年度下半期における中国の知財動向 魏/啓学／著 64-69
インド知的財産権制度の実務と課題 小川/聡／著 70-75
蔑視的商標の登録と表現の自由 片柳/真紀／著 76-81
知財研OB紹介 関/和郎／著 82-83
第3回意匠五庁(ID5)会合が開催されました 特許庁審査第一部意匠課／編 84-85
知財教材「デザイナーが身につけておくべき知財の基本」のご紹介 特許庁審査第一部意匠課企画調査班／編 86-87
「地域団体商標制度」について 森山/啓／著 88-89
商標早期審査制度をぜひ活用ください! 特許庁審査業務部商標課／編 90-91

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