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フォトレジスト材料開発の新展開 普及版

上田 充／監修

シーエムシー出版 2015.11 (エレクトロニクスシリーズ)

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 持禁区分 状態
オーテピア高知図書館 3Fビジネス /549.7/ﾌｵ/ 1108136738 一般   利用可 iLisvirtual

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タイトル フォトレジスト材料開発の新展開
叢書名 エレクトロニクスシリーズ
著者 上田 充 ／監修  
著者典拠番号 110004089510000
版表示 普及版
出版者 シーエムシー出版
出版地 東京
出版年 2015.11
ページ数 7,317p
大きさ 26cm
言語 日本語
一般件名 リソグラフィー , 感光性樹脂
一般件名典拠番号 510268700000000 , 510599600000000
NDC分類(9版) 549.7
内容紹介 現在多方面で使用されている、また将来用いられる微細加工用レジスト材料。最前線で活躍している研究者たちが、その最新の技術動向や問題点、将来の展望について詳述する。
ISBN 4-7813-1039-8
ISBN13桁 978-4-7813-1039-8
本体価格 ¥5000
資料情報1 『フォトレジスト材料開発の新展開』（エレクトロニクスシリーズ）　上田 充／監修 　シーエムシー出版　2015.11（所蔵館：オーテピア高知図書館　 請求記号：/549.7/ﾌｵ/　 資料コード：1108136738）
URL
https://opac.library.kochi.jp/winj/opac/switch-detail.do?lang=ja&bibid=1120051119

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