中山 弘/監修

シーエムシー出版 2013.11 (エレクトロニクスシリーズ)

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 持禁区分 状態
オーテピア高知図書館 3Fビジネス /501.4/シヨ/ 1107492876 一般   利用可

館別所蔵

館名 所蔵数 貸出中数 貸出可能数
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資料詳細

タイトル 触媒CVD<Cat‐CVD>の新展開
副書名 ラジカルを用いる新プロセス技術
叢書名 エレクトロニクスシリーズ
著者 中山 弘 /監修  
出版者 シーエムシー出版
出版年 2013.11
ページ数 5,276p
大きさ 26cm
一般件名 薄膜 , 触媒
NDC分類(9版) 501.4
内容紹介 表面科学、触媒化学、薄膜結晶成長、真空工学をベースに、Cat‐CVDの基礎から装置、材料、応用までを詳細に検討し、今後の実用化に向けた課題を示す。
ISBN 4-7813-0740-4
ISBN13桁 978-4-7813-0740-4