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1 件中、 1 件目
フォトマスク 電子部品製造の基幹技術
田邉 功/共著 竹花 洋一/共著
東京電機大学出版局 2011.4
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持禁区分
状態
オーテピア高知図書館
M4F書庫
/549.7/フオ/
1106356510
一般
利用可
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館別所蔵
館名
所蔵数
貸出中数
貸出可能数
オーテピア高知図書館
1
0
1
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資料詳細
タイトル
フォトマスク
副書名
電子部品製造の基幹技術
著者
田邉 功
/共著
竹花 洋一
/共著
法元 盛久
/共著
出版者
東京電機大学出版局
出版年
2011.4
ページ数
323p
大きさ
21cm
一般件名
リソグラフィー
NDC分類(9版)
549.7
内容紹介
マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した本。半導体デバイスをはじめ、電子部品分野であるFPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについて記述。先端のフォトマスク技術も紹介する。
ISBN
4-501-32820-7
定価
¥3800
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