田邉 功/共著 竹花 洋一/共著

東京電機大学出版局 2011.4

所蔵

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所蔵館 所蔵場所 請求記号 資料コード 資料区分 持禁区分 状態
オーテピア高知図書館 M4F書庫 /549.7/フオ/ 1106356510 一般   利用可

館別所蔵

館名 所蔵数 貸出中数 貸出可能数
オーテピア高知図書館 1 0 1

資料詳細

タイトル フォトマスク
副書名 電子部品製造の基幹技術
著者 田邉 功 /共著 竹花 洋一 /共著 法元 盛久 /共著  
出版者 東京電機大学出版局
出版年 2011.4
ページ数 323p
大きさ 21cm
一般件名 リソグラフィー
NDC分類(9版) 549.7
内容紹介 マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した本。半導体デバイスをはじめ、電子部品分野であるFPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについて記述。先端のフォトマスク技術も紹介する。
ISBN 4-501-32820-7
定価 ¥3800